MoneyDJ新聞 2024-12-26 10:38:55 記者 郭妍希 報導
雖然中芯國際(SMIC)、華為近年的半導體技術進展令人印象深刻，但荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.)執行長Christophe Fouquet認為，中國企業由於無法取得最先進的極紫外光(EUV)微影設備，晶片製程技術仍落後英特爾(Intel)、台積電(2330)與三星電子(Samsung Electronics)等業界巨擘約10~15年。
Tom`s Hardware 25日報導，Fouquet接受荷蘭鹿特丹商報(NRC)訪問時表示，「禁止出口EUV設備，將讓中國落後西方10~15年。這確實會造成影響。」
為遵守國際出口管制規範「瓦聖那協議」(Wassenaar Arrangement)，ASML從未將EUV設備出口至中國，即便中芯國際據傳曾訂購過一台。細節目前仍不清楚，但ASML因為美國制裁的關係，並未將上述EUV設備送交中芯。
不過，ASML先進的深紫外光曝光設備(DUV)，例如能夠以5奈米、7奈米等級製程生產晶片的「Twinscan NXT:2000i」，仍在持續出貨。
報導指出，華為及夥伴正在努力研究EUV技術、希望能自行打造微影晶片製造設備和相關生態系統，最快可能得花10~15年。ASML及夥伴當初從無到有，總共花費20多年才開發出商用機台、成功創立EUV生態體系。
須謹記，許多1990年代初期至中期研發的技術如今已全面公開，中國企業不需從零開始。然而，等到中國半導體業研發出低數值孔徑極紫外光(Low-NA EUV)系統，西方晶片業屆時應已進化至高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)、甚至是超數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設備。
美國政府正在對ASML施壓，希望該公司不要再為販售至中國的先進DUV系統提供維修服務，以符合目前對中國半導體業的制裁行動。然而，荷蘭政府尚未同意美方要求。ASML希望保留售中設備的控制權、以免敏感資訊外流，倘若中國企業接管維修工作，將無法保證敏感資訊是否洩漏。
(圖片來源：ASML)
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