ASML Holding
ASML
成立日期：1984年
上市日期：1995年
經營項目/產品：
該公司是荷蘭半導體設備製造商，專門提供半導體商生產過程中，所需軟硬體設備，及相關服務。
該公司主要產品為旗下微影技術儀器，如EUV極紫外光微影系統、DUV深紫外光微影系統等系列產品，以及矽晶圓檢測、量測技術方案等服務。
其中，儀器產品販售額佔總營收73%，服務業務則佔26%。
EUV儀器佔產品營收46%，為佔比最重項目，其次為佔36%的ArFi光刻機，及佔9%的KrF光刻機產品。
總公司位置及全球據點：
該公司總部位於荷蘭費爾德霍芬。
同時於美國、中國、日本，以及韓國等地設有辦公室，在台灣，該公司則於新竹、台中，及台南等地設有辦公室。
競爭情況：
該公司競爭對象為其他大牌半導體設備廠商，如Canon、Nikon、應用材料、科林研發，以及科磊等公司集團。
產業地位，銷售概況：
該公司是全球主要微影設備製造商，於六十多國設有辦事處，產品觸及一百二十多國。
台灣佔該公司總營收39%，為佔比最重市場，其次為佔33%的韓國、佔14%的中國，及佔8%的美國市場。
上游供應鏈或原物料的供應情況及廠商：
該公司依靠合作製造商，購入生產過程所需的原物料、設備，及工具，再製成旗下產品。這些合作廠商包含Zeiss蔡司、Trumpf，及Aalberts公司等設備製造廠商。
產品銷售的主要客戶及管道：
該公司客戶群來自半導體製造商，如台積電、Intel、三星、美光科技，以及SK海力士等公司集團。
該公司透過自家行銷團隊，直接販售產品至客戶。
研發及投資的方向：
該公司積極投資、研發光刻設備技術，以便即時推出新型儀器供應市場需求，維持優勢地位。
於2022年1月，宣布與Intel加強合作關係，Intel將購入該公司TWINSCAN EXE:5200系統儀器，預期於2025年，共同應用高數值孔徑(High-NA) EUV技術，生產半導體。
