耐諾公司 (NANO.US)

Nanometrics Incorporated 成立於1975年，總部位於美國加州米爾皮塔斯，提供在美國、日本、韓國和國際上主要的積體電路、高亮度LED、分離式元件及資料儲存裝置等製造中使用的高性能工序控制測量和檢測系統。公司提供自動測量系統，用於計量光學關鍵尺寸(OCD)量測、薄膜測量以及晶圓應力在電晶體及交互運作下的測量應用和Lynx平台，能使集群計量工廠自動化可應用於晶圓計量。如光學關鍵尺寸的測量和薄膜工序的控制。此外，公司自動和整合系統還用於多種工序控制上，包括尺寸和薄膜厚度測量、地型測量裝置、缺陷檢測和覆蓋登記，以及用於薄膜其他各種性質分析上，如其光學，電學及材料等。其工序控制解決方案部署於生產工序上，從前端的基板製造到大批量的半導體和其他裝置的生產，以及到晶圓級封裝的應用工序皆有之。該公司直接或透過代工廠商管道，銷售其測量和檢測系統予半導體製造商和設備供應商，以及高亮度的LED、太陽能光伏、資料儲存裝置、矽晶圓和光罩等製造商。

2019年10月，公司與Rudolph Technologies(RTEC.US)合併為Onto Innovation Inc.(ONTO.US)，故下市。