光學接近修正(Optical Proximity Correction)

光學接近修正(Optical Proximity Correction；OPC)是讓現有光刻設備能夠不斷向下挑戰微影尺寸極限的一種技術。隨著制程製程的微縮、微影光罩技術的盛行，晶圓廠採用OPC來修正光罩板，光學接近方法進行校正佈局後，可讓晶圓上的圖形盡可能接近設計者的原本要求，OPC是近年來製造端所興起的一種熱門技術。