靶材
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靶材(target),是對物理氣相沉積技術應用的鍍膜材料。在沉積過程中,膜材要受到電子束、離子束或放電離子的衝擊,就像被射擊的靶子一樣。而濺射靶材,是靶材的一種,指應用在真空濺射去鍍膜的靶材。
靶材種類有分純金屬、合金、化合物。純金屬包括金、銀、鋁、鎳、鉭、鈦、銅、錫、鉻、鈦;合金包括銦銀銻碲、鈦鋁、鈦鉻、鈦矽、鉻鉬、鎳鉻、鎳釩、鎳銅、鉻鎢、鉻釩、鋱鐵鈷;化合物包括矽化物、碳化物、氮化物、氧化物。
濺射靶材為濺鍍時的材料。主要可應用在ITO導電玻璃、DWDM(高密度多工分配器)、CD-R、CD-RW、DVD、EMI(抗電磁波干擾)、OLED、磁性材料、感測元件、壓電材料、硬化膜、高溫超導等產品上。
例如,根據國內產業調查單位的統計數據,在十五吋TFT面板的成本結構中,包括玻璃(2%)、靶材(1%)、彩色濾光片(13%)、偏光膜(6%)、驅動IC(10%)、背光模組(8%)以及其他中段Cell工程材料(2%)與後段模組材料(9%),合計所有材料成本佔整體生產成本的51%。
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