光阻劑

光阻劑，是一個用在許多工業製程上的光敏材料，像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層，為半導體及TFT-LCD微影製程中的關鍵材料。

 

光阻劑分為正型光阻及負型光阻，兩者微影製程流程皆相同，但因感光材料特性的關係，使顯像結果完全不同。正向光阻其照到光的部分會溶於光阻顯影液，而沒有照到光的部份不會溶於光阻顯影液。反之，負向光阻其照到光的部分不會溶於光阻顯影液，而沒有照到光的部份會溶於光阻顯影液。

 

而陣列光阻(APR)屬正型光阻，彩色光阻(CR)屬負型光阻。

 

Array製程為TFT-LCD之最主要技術，其原理是在玻璃基板上利用導電體塗佈/ 微影照相及曝光顯像等技術，製作出電極基板，作為傳遞訊號/電壓控制之元件，而在LCD的Array線路製作中，需使用4-5道的光阻進行微影/蝕刻製程來完成線路，因此APR需求量相當大。

 

而彩色光阻是彩色濾光片的顯色來源，分R、G、B 三種種類，彩色光阻材料與一般光阻材料最大不同處是添加了顏料的成分，形成色相之來源，成本也較高，其單價約是APR的2-3倍以上，具有較高耐化學性、耐熱性及優良機械性。

 

半導體製程常用的正型光阻，在光學曝光方式下，光阻劑上層接受能量較下層光阻高，使得正型光阻劑成像大部份圖形為上窄下寬，無法經一次曝光方式即得到Overhang的圖形，而負型光阻的成像與正型光阻圖像相反，所以負型光阻劑是lift-off(掀離)製程的最佳選擇。