富士寫真台灣半導體用研磨液新廠已啟用量產

精實新聞 2012-08-31 09:50:08 記者 蔡承啟 報導

富士寫真(Fujifilm Holdings)30日發布新聞稿宣佈，旗下子公司FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd(以下簡稱FFEM)所屬的台灣半導體材料生產/銷售子公司「台灣富士電子材料(FUJIFILM Electronic Materials Taiwan Co., Ltd；以下簡稱FETW)」的半導體製程用化學機械研磨液(CMP Slurry)新廠房(產線)已於8月啟用量產，正式於台灣當地進行CMP Slurry的生產；該座台灣廠房為FFEM全球第2座CMP Slurry生產據點，另一座位於美國。

富士寫真表示，之所以在台灣設置CMP Slurry新廠房，主因看好CMP Slurry後續需求看俏，加上藉此可加強對台灣當地顧客的支援、並縮短產品交貨時間。FETW設立於1996年，被定位為供應亞洲市場需求的核心據點，設立初期主要生產光阻劑等產品，之後於2002年開始生產影像感測器用材料。

日立化成(Hitachi Chemical)於去年12月20日宣布，為了因應台灣等亞洲市場對半導體的需求增加、加上基於分散風險的考量，故該公司將斥資約20億日圓在台灣台南市興建使用於半導體製程的化學機械研磨液(CMP Slurry)廠。日立化成表示，將於2012年度上半年在台南市設立製造/銷售子公司「台灣日立化成電子材料股份所限公司」、並著手興建新廠，該座新廠預計將於2013年4月啟用量產。