台積電法說會前夕，傳ASML高層將再度訪台

MoneyDJ新聞 2025-01-06 12:00:30 記者 王怡茹 報導

台積電(2330)即將於16日舉行今(2025)年首場法說會，供應鏈傳出，半導體微影設備製造龍頭艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）近期將再度率公司高層來台拜訪台積電與關鍵供應商。業界人士預期，這次除了例行討論的EUV(極紫外光)設備發展及下世代機台相關規劃外，美國新政府上台後的政策方向，也將成為重點討論議題。

ASML監事會於去(2024)年4月股東大會上提名Christophe Fouquet（法籍，1973 年生）為 ASML 新任執行長兼總裁。2024年元月法說會前夕，當時尚未正式上任執行長的Christophe Fouquet就與多名高層一同訪台，與台積電董座暨總裁魏哲家、各部門主管緊密溝通。

事實上，ASML高層每年都有亞洲拜訪客戶行程，僅2020年因防疫措施而未來台，去年開春首月就立即拜訪重要大客戶台積電，今年當然不例外。業界認為，這次ASML高層將分別與台積電主要高階主管、關鍵供應商會面，就產品技術、製程規劃、業務合作進行全面討論。其中，高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)微影曝光機的導入時程、美國新政府政策等，將會是重中之重。

根據ASML公開消息，新一代High-NA EUV設備已於2023年底開始陸續出貨，產能預計每小時可曝光超過185片晶圓，將支援2奈米以下邏輯晶片及具有相似電晶體密度的記憶體晶片量產。據悉，該機台要價超過3億歐元，由英特爾最早採用，三星也規劃在今年取得第一台機台。

台積電自7+奈米開始導入EUV設備，之後的5奈米、3奈米則是全製程採用，去年已取得首套設備進行試用。業界人士表示，台積電最快會在A14P小量採購High-NA EUV曝光機、進行練兵，並於A10製程進入大規模採用，穩居ASML的最大客戶。

ASML近次法說會預估，2025年集團銷售額達300~350億歐元，其中，中國佔比約20%，自2024年的50%大幅降低。Christophe Fouquet先前接受荷蘭鹿特丹商報(NRC)訪問時則表示，中國企業由於無法取得最先進的極紫外光微影設備，晶片製程技術仍落後英特爾、台積電與三星電子等業界巨擘約10~15年。