半導體需求看俏 Canon傳蓋廠、倍增微影設備產能

MoneyDJ新聞 2022-10-05 06:47:51 記者 蔡承啟 報導

日經新聞4日報導，Canon將在日本興建半導體設備新工廠、增產使用於半導體製造核心製程的微影設備，該座新廠預計2023年內動工、目標2025年春天啟用生產，包含廠房興建費用及生產設備的總投資額預估將超過500億日圓。Canon目前利用宇都宮事業所和阿見事業所等日本國內2座據點生產微影設備，而Canon將在宇都宮事業所內約7萬平方公尺的空地上、暌違21年來首度興建微影設備新廠。

報導指出，Canon預估2022年半導體微影設備銷售量將年增29%至180台，近10年來飆增至4倍，而藉由此次蓋新廠、可將Canon整體微影設備產能提高至現行的近2倍，藉此因應需求增加。Canon微影設備全球市佔率(以台數換算)為3成、僅次於擁有6成市佔率的荷蘭ASML，而因英特爾、台積電(2330)等紛紛計畫在美國等地打造半導體新工廠，半導體需求有望年年攀升、因此Canon研判有必要擴增產能。業界預估，2030年全球半導體市場規模上看1兆美元。

據報導，除蓋新廠、倍增微影設備產能外，Canon也將從事採用「奈米壓印」技術的次世代設備的研發，且考慮進行生產。該次世代設備的研發由Canon主導，鎧俠(Kioxia)、大日本印刷(DNP)也參與。

報導指出，目前要形成數奈米(nm)等級的電路、就必須使用被稱為「EUV(極紫外光)」技術的設備，而當前EUV微影技術由ASML獨佔。只是EUV一台要價約200億日圓、且極為耗電，而若「奈米壓印」技術實用化的話，和EUV相比，預估微影製程的製造成本最高可刪減4成、耗電力預估最高可縮減9成。