Nova獲得另外兩個大客戶擴大公司的客戶群

Nova Measuring Instruments（納斯達克交易代碼：NVMI）10日宣布，已通過在台灣一家全球領先的積體電路(IC)製造廠中使用整合於 STI CMP 磨光器的 NovaScan 2040 整合式量測系統成功地執行了該公司的先進控制 (APC)，另外還使日本其他20大半導體廠商成為其客戶。此次執行不僅極大地縮小了返工率和簡化了量測系統，還改善了以 0.13 Cu 技術生產的晶圓的 CMP後晶圓厚度偏差。

NovaScan 2040 和 3060 在13個場地的量測時間均為每個晶圓13秒，它們不僅與所有高產的磨光器相兼容，還能在不影響磨光器產量的情況下，量測和規劃所有磨光前和磨光後的晶圓。Nova 是唯一提供能使客戶選擇最佳解決方案的干濕整合的整合量測供應商。NovaScan 2040 和 3060 能使用紫外線分光光度法 (UV Spectrophotometry) 精確地測量和規劃半導體產業低於 0.095m 技術節點的最先進的應用產品。

台灣一家全球領先的積體電路廠商表示，在 STI CMP 磨光器中採用 NovaScan 2040 整合式量測系統之後，返工率降低了80%多。CMP 後晶圓厚度偏差已改善60%，量測遲延時間也極大地縮短了。在2003年9月於科羅拉多泉召開的 AEC/APC 大會的講話中，該客戶指出：“整合式量測系統是實現晶圓之間控制的關鍵賦能者。”