靶材

靶材(target)，是對物理氣相沉積技術應用的鍍膜材料。在沉積過程中，膜材要受到電子束、離子束或放電離子的衝擊，就像被射擊的靶子一樣。而濺射靶材，是靶材的一種，指應用在真空濺射去鍍膜的靶材。

靶材種類有分純金屬、合金、化合物。純金屬包括金、銀、鋁、鎳、鉭、鈦、銅、錫、鉻、鈦；合金包括銦銀銻碲、鈦鋁、鈦鉻、鈦矽、鉻鉬、鎳鉻、鎳釩、鎳銅、鉻鎢、鉻釩、鋱鐵鈷；化合物包括矽化物、碳化物、氮化物、氧化物。

濺射靶材為濺鍍時的材料。主要可應用在ITO導電玻璃、DWDM（高密度多工分配器）、CD-R、CD-RW、DVD、EMI（抗電磁波干擾）、OLED、磁性材料、感測元件、壓電材料、硬化膜、高溫超導等產品上。

例如，根據國內產業調查單位的統計數據，在十五吋TFT面板的成本結構中，包括玻璃（2％）、靶材（1％）、彩色濾光片（13％）、偏光膜（6％）、驅動IC（10％）、背光模組（8％）以及其他中段Cell工程材料（2％）與後段模組材料（9％），合計所有材料成本佔整體生產成本的51％。