JX Advanced Metals Corporation (5016.JP)成立於1905年,總部位於日本港區。前稱JX Metals Corporation,於2024年5月更為現名。公司主要從事有色金屬精煉和半導體濺鍍靶材生產商,有色金屬業務涵蓋相關的尖端材料生產與銷售、資源開發、冶煉以及廢舊設備金屬回收等多個領域。公司提供全系列的高純度濺鍍靶,用於製造半導體、資料儲存設備、平面顯示器和光學薄膜。