氧化法把一塊矽晶片的表面變為二氧化矽的處理方法。在很高的溫度下，將氧氣或氣流通過矽晶片，表面就被氧化而形成很薄的一層二氧化矽。這層二氧化矽不易被外界污染物所滲透，因此具有保護其底層矽半導不受污染或擴散作用。
