三星：5奈米EUV製程開發成功、準備向客戶發送樣本

MoneyDJ新聞 2019-04-16 15:16:13 記者 郭妍希 報導

三星電子(Samsung Electronics Co., Ltd.)再添一款先進的極紫外光(EUV)製程技術，該公司的5奈米(nm)FinFET製程已經開發成功、準備要對客戶發送樣本。(圖為三星位於南韓華城市的最新EUV生產線，來源：新聞稿)

根據新聞稿，跟7奈米相較，三星的5奈米FinFET製程技術，不但邏輯晶片有效度(logic area efficiency)增加25%，耗電量也低了20%，等於效能拉高10%。

除了效能、耗電及單位面積(PPA；Performance、Power、Area)從7奈米製程提升至5奈米外，客戶還可運用三星已經高度發展的EUV技術。就跟前世代一樣，5奈米製程在金屬膜使用EUV微影成形技術，能減少金屬膜層、提供更佳的擬真度(fidelity)。

另一個關鍵好處，就是5奈米能重複使用所有7奈米技術的智慧財產權(IP)。因此，7奈米客戶在轉換至5奈米時，成本將大幅降低，設計生態也早已獲得驗證，這能縮短5奈米產品的發展時程。

三星曾於2018年10月宣布、7奈米製程技術進入初步投產階段，這是該公司第一款採用EUV技術的製程。三星已開始提供業界首批EUV新品的商業樣本，並於今(2019)年稍早開始量產7奈米製程技術。不只如此，三星也跟客戶合作基於EUV的客製化6奈米製程，首款6奈米晶片已完成設計定案(tape out)。

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